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        2. 摄影电影;光学设备的制造及其处理,应用技术
          • 焦距放大增倍镜头的制作方法
            本发明涉及的是一种光学成像领域的技术,具体是一种焦距放大增倍镜头。超长焦镜头在拍摄距离与放大倍率上有着无与伦比的优势,因而在边防安全、天文观测等需要拍摄数公里以外的场合,对超长焦距镜头非常青睐。普通的变焦镜头因为设计难度、加工成本、镜头尺寸等因素的制约,其望远端往往达不到超长焦定焦镜头的水...
          • 用于监测光刻机成像平面异常的方法与流程
            本发明涉及半导体光刻工艺,具体而言涉及一种用于监测光刻机成像平面异常的方法。随着集成电路制造业的迅速发展,光刻成像技术不断提高,芯片的特征尺寸也不断的缩小,对套刻精度有了更高的要求。套刻精度是现代高精度步进扫描投影光刻机的重要性能指标之一,也是新型光刻技术需要考虑的一个重要部分。套...
          • 图像形成装置的制作方法
            本发明涉及图像形成装置。一直以来,采用电子照相方式的打印机、复印机等图像形成装置被广泛使用。在一般的图像形成装置中,由于使用的纸张的种类、性质多种多样、输送辊等?#32771;?#30340;特性以及输送时的温度、湿度这样的使用环境等原因,纸张有?#34987;?#22312;与输?#22836;?#21521;正交的方向(以下,称为纸张宽度方向或主扫描方向)上偏移...
          • 制造线栅偏振器的方法与流程
            (a)发明领域本发明涉及线栅偏振器。更特别地,本发明涉及制造线栅偏振器的方法,所述方法可以以大面积生产并且可以使用辊印(rollstamp)实现连续过程。(b)线栅偏振器采用基质和具有高长宽比并且被形成在基质上的金属线来形成。金属线被分开并且平行布置。当金属线的布置周期(arrangem...
          • 液晶显示屏的制作方法
            本发明涉及液晶显示领域,特别涉及一种液晶显示屏。现有的液晶显示屏,包括驱动模块,对盒的阵列基板和彩膜基板及位于两者之间的液晶层,阵列基板包括阵列排布的像素电极,其中,液晶分子具有预偏角,如液晶分子预偏角的理论值是5度。液晶显示屏要显示图像的时刻用Tx时刻表示,驱动模块根据Tx时刻液晶显示屏...
          • 一种晶体材料、其制备方法及作为非线性光学晶体的应用与流程
            本申请涉及一种晶体材料、其制备方法及作为非线性光学晶体的应用,属于非线性光学材料领域。中远红外激光光源在军事民用领域具有重要的应用,而二阶非线性材料由于激光倍频、光参量振荡效应能产生不同波长的光,在中远红外激光光源中扮演着不可替代的作用。经过多年来在非线性光学晶体领域的探索和?#33455;浚?#30446;前在可...
          • 曲面显示器的制作方法
            本发明涉及一种显示器,且特别涉及一种曲面显示器。使用者观看平面显示器时,平面显示器的显示画面中央到使用者的距离不等于显示画面的两侧到使用者的距离,从而造成使用者观看到的影像失真。因此,有人提出曲面显示器。使用者观看曲面显示器时,由于曲面显示器的显示画面中央到使用者的距离接近曲面显示器的显示...
          • 电吸收调制器的制作方法
            本发明涉及光互连领域,尤其涉及一种电吸收调制器。硅材料作为微电子领域的传统材料,在加工工艺和制作成本上有着绝对的优势。然而传统的以金属线和电介质为基础的互连方案由于在延迟、功耗和带宽等方面的限制,难于满足未来众核片上系统全局的需求。光互连与电互连相比具有带宽大、功耗低、延迟小等优势,因而有...
          • 波长选择开关和选择波长的方法与流程
            本发明涉及信息与通信,并且更具体地,涉及波长选择开关和选择波长的方法。可重构光分叉复用器件是波?#25351;?#29992;光互连系统中的核心器件之一,而无干扰(Hitless)波长选择开关是该器件的关键元件。传统光通信中的无干扰波长选择开关多基于微机电系统(Micro-Electro-Mechanica...
          • 基板层压设备及对准系统的制作方法
            相关申请的交叉引用本申请要求于2008年1月18日提交的美国专利申请No.12/009,375、于2008年1月18日提交的美国专利申请No.12/009,472、于2008年1月18日提交的美国专利申请No.12/009,373、于2008年1月18日提交的美国专利申请No.12/009,393...
          • 本发明涉及绝?#30340;?#24418;成用感光性树脂组合物、通过该绝?#30340;?#24418;成用感光性树脂组合物形成的绝?#30340;ぁ?#20197;及使用该绝?#30340;?#24418;成用感光性树脂组合物的绝?#30340;?#30340;形成方法。以往,在液晶显示元件、集成电路元件、固态摄影元件等电子?#32771;?#20013;,为了使配置成层状的配线之间绝缘,而在配线间形成绝?#30340;?#31561;。该绝?#30340;?#30001;无机膜、有机膜等...
          • 一体密封件及显影盒的制作方法
            本实用新型涉及激光打印机领域,尤其涉及一种一体密封件及显影?#23567;?#22270;像形成装置利用碳粉在打印纸上形成图像。碳粉装在可拆卸于图像形成装置的显影盒?#23567;?#24403;碳粉耗尽的时候,旧的显影盒被新的显影盒更换掉。显影盒至少包括:壳体、显影元件和出粉刀,碳粉储存在壳体的粉仓部分,显影元件旋转支撑在壳体的显影仓部分...
          • 一种基于激光墨盒检测技术的新型硒鼓的制作方法
            本申请属于打印机硒鼓设备,具体地说,涉及一种基于激光墨盒检测技术的新型硒鼓。硒鼓是激光打印机中不可或缺的耗材之一,它不仅决定了打印质量的好坏,还决定了使用者在使用过程中需要花费的金钱多少。在激光打印机中,70%以上的成像?#32771;?#38598;中在硒鼓中,打印质量的好坏?#23548;?#19978;在很大程度上是由硒鼓决定...
          • 一种浸润式曝光扫描载台装置的制作方法
            本实用新型涉及半导体生产领域,具体地涉及浸润式曝光扫描载台装置。晶圆曝光过程中可能会出现导致晶圆?#21450;?#24322;常的气泡缺陷。气泡缺陷是由于浸润液在由与晶圆载台接触到直接与晶?#27493;?#35302;的过程中进入了气体而形成气泡,这些气泡在光刻过程中会附着在晶圆表面,且集中在晶圆的边缘,对晶圆光刻后的?#21450;?#36896;成异常的影响...
          • 一种可提?#23433;夤收?#30340;晒版机的制作方法
            本实用新型属于晒版机,具体涉及一种可提?#23433;夤收?#30340;晒版机。现有的晒版机最常见的?#25910;?#26159;软片药膜面或硫酸纸碳粉面与ps版的感光胶膜面的密着吻合不够充分,出现这种?#25910;?#23558;会?#29616;?#24433;响晒版质量,产生上述?#25910;现?#35201;是真空泵抽气不结实引起的,而影响抽气不结实的原因之一就是真空泵抽气通气管被异物、?#39029;尽?..
          • 一种半?#36828;?#26333;光机的制作方法
            本实用新型涉及PCB板制造领域,尤其涉及一种半?#36828;?#26333;光机。目前PCB板制作工艺中的曝光步骤是在曝光机上完成的,现有的一种半?#36828;?#26333;光机结构如附图1所述,包括驱动电机2和与驱动电机2连接的链轮传动机构3,所述链轮传动机构3设置在导轨座4的外侧,所述链轮传动机构3的链条通过连?#24433;?穿过导轨座4上...
          • 一种全?#36828;?#26333;光机机械?#30452;?#30340;制作方法
            本实用新型涉及PCB板曝光机领域,尤其涉及一种全?#36828;?#26333;光机机械?#30452;邸CB板制造工艺过程中需要采用机械?#30452;?#36755;送板料,现有的机械?#30452;?#19978;仅仅设置一个吸盘,通过该吸盘吸取和放下板料,但PCB板制造工艺中使用的板料薄的只有与纸张差不多的厚度,仅通过一个吸盘吸取板料时,板料周围会耷拉下来,导致板料表...
          • 密封式透镜组件的制作方法
            本实用新型涉及半导体设备制造,特别涉及一种密封式透镜组件。在半导体生产过程中,光刻工艺十?#31181;?#35201;,能够在半导体结构表面形成多样的?#21450;浮?#36890;常来说,首先在半导体表面形成掩膜层,之后在掩膜上形成光刻胶层,再在进行光刻。具体为,光线透过掩膜版照射在光刻胶层上,引起在光刻胶层的曝光区域发生化学...
          • 一种墨喷组件的制作方法
            本实用新型涉及墨喷组件,具体为一种墨喷组件。墨喷是指在涂好感光胶的丝网上喷涂高阻光能力的热蜡或油墨,然后整版曝光,阻光的点子覆盖的感光胶因未见光而被冲洗掉,露出网孔。而墨喷成像系统的工作原理,先在丝网上涂布好丝网感光胶并干燥,通过喷量系统把阻光的油墨喷印在感光层上,待油墨干燥后接着...
          • 相位移光罩的制作方法
            本实用新型涉及光刻,特别涉及一种相位移光罩。在中,相位移光罩(PSM,phaseshiftmask)主要用于将预先设计的电子电路布局?#21450;?#31934;?#38750;?#28165;晰的转印到晶圆上。由于相位移光罩的穿透率不同,在曝光晶圆时,随着相位移光罩穿透率的增大,在晶圆上形成的面积较大的?#21450;?#20301;置上会出...
          技术分类
          天津11选5玩法
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